Il filtro UV K&F Concept Nano-X MRC è un accessorio indispensabile per i fotografi che desiderano massimizzare la protezione delle loro lenti e ottimizzare la qualità dell'immagine. Con un attacco di 55 mm, questo filtro UV è progettato specificamente per proteggere l'obiettivo da polvere, sporco e impronte digitali. Riduce gli effetti nocivi della radiazione UV, il che è particolarmente vantaggioso per le riprese paesaggistiche, poiché minimizza l'afa atmosferica e migliora la chiarezza delle immagini. Realizzato in vetro ottico HD di alta qualità dell'azienda giapponese AGC, il filtro offre non solo un'eccellente nitidezza e resa cromatica, ma anche una notevole durata. Il rivestimento NANOTEC a 28 strati garantisce che il filtro sia resistente ai graffi e facile da pulire. Inoltre, il telaio ultrafine previene effetti di vignettatura che possono verificarsi con l'uso di obiettivi tele. È inclusa anche una pratica custodia protettiva per conservare il filtro in sicurezza.

• Compatibile con attacco da 55 mm per un utilizzo versatile
• Protezione da polvere, sporco e impronte digitali
• Riduce la radiazione UV e migliora la qualità dell'immagine
• Vetro HD di alta qualità per eccellente nitidezza e resa cromatica
• Telaio ultrafine per evitare vignettature.